設備用途：實驗爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用於大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
主要技術參數： ◆工藝管數量：1-4管 ◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英吋） ◆工作溫度範圍：400～1280℃ ◆恆溫區長度及精度±0.5℃/1080mm ◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）
◆結構型式：臥式熱壁型 ◆氣體流量設定精度:±1％F.S ◆氣路系統氣密性： 1×10-7pa.m3/s
