氧化擴散爐產品應用：應用於集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域，適用2~8英吋工藝尺寸
擴散爐產品特點：
◆工業計算機控制系統，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門等動作進行自動控制
◆採用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均採用進口，確保設備的高可靠性
◆工藝管路採用進口閥門管件組成-氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均採用EP級電拋光管路），流量控制採用進口質量流量計（MFC）
◆控溫精度高，溫區控溫穩定性好；
擴散爐主要技 朮指標
◆工作溫度：200～1300℃
◆加熱體控制點：3/5點
◆爐體恆溫區：450mm/600mm/800mm/1100mm
◆恆溫區精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
◆單點溫度穩定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
◆ 可控升溫速度：15℃/min
◆ 降溫速度：5℃/min（900～1300℃）
◆供電：三相四線，380VAC/50HZ
◆局部淨化等級：100級。
◆氧化系統：干氧、濕氧（氫氧內外點火） |
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產品圖片
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